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　　下面讓低溫等離子電源廠家?guī)Т蠹伊私庖幌碌入x子表面處理設(shè)備的用途。
　　金屬表面去污并清洗，在真空和瞬時高溫狀態(tài)下，污染物部分蒸發(fā)，污染物在離子的沖擊下被擊碎并被真空泵抽出，紫外破壞污染物，因為等離子處理每秒只能穿透幾個納米的厚度，所以污染層不能太厚。指紋也適用。在等離子表面處理設(shè)備加工過程中，通過處理氣體的作用，被刻蝕物會變成氣相，例如在使用氟氣對硅刻蝕時。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出，表面連續(xù)被新鮮的處理氣體覆蓋。不希望被刻蝕部分要使用材料覆蓋起來。 等離子表面處理的作用可以簡單地用滴水來驗證，處理過的樣品表面被水潤濕。長時間的等離子處理，材料表面還會被刻蝕，刻蝕表面具有很小的表面接觸角和較大潤濕能力。
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